您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
面接触三探针测试硅外延片的电阻率
更新时间:2026-07-27
    • 面接触三探针测试硅外延片的电阻率

    • 面接触三探针测试硅外延片的电阻率

    • 分析测试学报   1993年第2期 页码:68-71
    • DOI:10.19969/j.fxcsxb.1993.02.018    

      中图分类号:
    • 纸质出版:1993

    移动端阅览

  • 吴泳章, 朱德平, 张海民, 鲁松年. 面接触三探针测试硅外延片的电阻率[J]. 分析测试学报, 1993,(2):68-71. DOI: 10.19969/j.fxcsxb.1993.02.018.

    吴泳章, 朱德平, 张海民, 鲁松年. 面接触三探针测试硅外延片的电阻率[J]. 1993, (2): 68-71. DOI: 10.19969/j.fxcsxb.1993.02.018.

  •  
  •  
icon
试读结束,您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束,您可以通过登录账户,到个人中心,购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员?
去登录 >

0

浏览量

74

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

用俄歇参数法研究SiO2/Si界面层硅元素过渡态
水中微量硅的硅钼蓝光度法测定——还原剂的研究
赤霉素在钼蓝法测定砷、磷、硅中的应用———连续测定钢铁中的砷、磷、硅
测定水中硅的新还原剂——赤霉素-葡萄糖-二氯化锡混合液
主成分回归rFIA同时测定磷和硅的应用研究

相关作者

胡兴中
赵汝权
陈萦
王忠燕
刘芬
袁敏
郑本亨
王玉标

相关机构

北京理化分析中心
华南师范大学分析测试中心
安徽教育学院化学系,中国科技大学结构分析开放实验室
0