您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
紫外光谱结合机器学习算法的祛痘类化妆品中4种禁用抗感染类药物快速筛查
紫外光谱结合机器学习算法的祛痘类化妆品中4种禁用抗感染类药物快速筛查
Rapid Screening of 4 Banned Substances in Acne-clearing Cosmetics by UV Spectroscopy Combined with Machine Learning Algorithm
- 分析测试学报 2025年44卷第6期 页码:1096-1106
DOI: 10.12452/j.fxcsxb.24122328
修回:2025-01-09 ,
录用:2025-01-13
移动端阅览
HTML全文
图( 6 ) 表( 3 )
参考文献
出版信息
数据统计
681
浏览量
1297
下载量
0
CSCD
文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
- BibTeX下载
- Endnote下载
- RefMan 下载
- NoteExpress下载
- NoteFirst下载
相关文章
化妆品包装相关聚丙烯样品挥发性成分的HS-GC-MS非靶向分析及化学计量学判别
化妆品中21种美白功效成分的DART-Orbitrap HRMS快速筛查与确证研究
顶空-气相色谱-质谱法测定化妆品中33种有害挥发性有机溶剂
基于高效毛细管电泳技术的HRAS基因分子分析方法研究
高温费托合成油加工工艺中大分子含氧化合物的鉴定
相关作者
向健华
芦丽
方方
肖若兰
刘彤彤
梁瑞强
曹进
孙磊
相关机构
江苏省食品药品监督检验研究院
中国药科大学 中药学院
中国药品检定研究院
福建省食品药品质量检验研究院
中国食品药品检定研究院


