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[J]. (4):65-68(1988)
DOI:
[J]. (4):65-68(1988) DOI:
<正> 表面分析是近十多年来迅速发展的新型分析技术。它被广泛应用于半导体、催化、冶金、腐蚀、钝化、涂膜、粘合、摩损以及晶体生长、渗杂、注入、外延等领域。据统计,表面分析技术已多达五十余种,其中最常用的是俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱正>
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