采用恒电位法在磷酸盐缓冲溶液中成功制备了聚邻苯二胺修饰玻碳电极

该修饰电极对H2O2有显著的电催化还原特性。用扫描电镜表征了聚邻苯二胺膜的形态结构

考察了影响膜修饰电极电催化还原特性的因素

发现在弱酸条件下制备的膜电极才对H2O2电还原有较高的催化活性。最佳制备条件:成膜电位0.75 V

成膜时间50 m in

成膜液中单体最佳浓度大于6.0 mmol.L-1。低扫描速率下

膜电极反应受吸附控制

表现出薄层电化学的特性;高扫描速率下

电极反应受扩散控制。对H2O2响应的线性回归方程:在5.88×10-2

2

3.5 mmol.L-1

ΔIp(μA)=0.435+0.494cH2O2(mmol.L-1)(r=0.997 5

n=18);在25.3

4

8.4 mmol.L-1

ΔIp(μA)=9.36+0.894cH2O2(mmol.L-1)(r=0.999 4

n=15)。