类金刚石薄膜表面的氨基修饰

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类金刚石薄膜表面的氨基修饰

更新时间：2025-02-21

- 类金刚石薄膜表面的氨基修饰
- Issue 5, Pages: 601-604(2009)
- 作者机构：
  
  1. 中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室
  2. 中山大学测试中心
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC： TB383.2
- Published：2009
- 稿件说明：
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[J]. 2009, (5): 601-604.
DOI：

[J]. 2009, (5): 601-604. DOI：

摘要

采用射频磁控溅射法在双面抛光Si(100)基片上制备了类金刚石薄膜

通过磁过滤等离子体化学气相沉积法

以N2、H2混合气体为反应溅射气体

对类金刚石薄膜样品表面进行氨基改性。傅立叶变换红外透射光谱(FT-IR)的结果表明

改性后的类金刚石薄膜上有C—NH2键存在;光电子能谱(XPS)的结果表明

改性后的薄膜表面含氮量约为8.92%

N1s的结合能出现在氨基对应的结合能范围内

表明类金刚石薄膜经过适当改性后可以在薄膜表面产生氨基。

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