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更新时间：2023-07-17

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- Issue 2, Pages: 45-49(1983)
- 作者机构：
  
  北京化学试剂研究所 ,北京化学试剂研究所 ,北京化学试剂研究所
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  CLC：
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[J]. (2):45-49(1983)
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[J]. (2):45-49(1983) DOI：

摘要

<,正,>, 高纯SiCl,4,是制备光导纤维的重要材料。SiCl,4,的分析通常采用水解法:将SiCl,4,水解后加入氢氟酸,以SiF,4,形式挥发基体。该法因使用试剂多,空白值高,在高纯分析中已被低温挥发法所代替。低温挥发法是将盛有SiCl,4,坩埚放在电热板上低温(约50℃),挥发SiCl,4,或在低温下通入经过净化和干燥的氮气挥发基体,用酸溶解残渣,然

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