Teste de resistividade em wafers epitaxiais de silício por sonda tripla de contato superficial
摘要
Este método (doravante denominado sonda tripla de contato superficial) é uma invenção original da China, muito superior ao método de contato pontual, podendo ampliar o alcance atual dos testes de resistividade por sonda tripla em wafers epitaxiais. Este artigo descreve o uso deste método para testar blocos calibrados de silício monocristalino e wafers epitaxiais.
关键词
sonda; resistividade; silício
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