Este estudo estabeleceu um método de espectrometria de massa em tandem com plasma indutivamente acoplado (ICP-MS/MS) para a determinação simultânea de 20 elementos traço de impurezas em háfnio de alta pureza. Um sistema binário de ácidos nítrico e fluorídrico foi utilizado para a completa decomposição da amostra em uma etapa, sem necessidade de separação de matriz ou coprecipitação, permitindo a injeção direta da amostra e aumentando significativamente a eficiência e a capacidade de análise. Através da otimização sistemática dos parâmetros operacionais do instrumento, considerando as características de interferência dos diferentes elementos, foram empregados o modo de colisão com hélio (para determinação de Be, Mg, Al, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Mo, Cd, Sn, Sb, Pb) e o modo de reação com oxigênio (para determinação de Pt, Au), eliminando eficazmente as interferências de íons poliatômicos derivadas da matriz de háfnio; a correção pelo método de padrão interno online ajustou os efeitos de matriz e o desvio de sinal a longo prazo do instrumento. A validação do método mostrou que, sob condições instrumentais ideais com fluxo de gás de diluição de 0,520 L·min^-1 e fluxo de gás de reação de oxigênio de 0,950 mL·min^-1, os limites de detecção para os 20 elementos-alvo variaram de 0,0102 a 0,3180 mg·kg^-1, com recuperação por adição de 91,0% a 109% e precisão relativa padrão (RSD) inferior a 5%. Este método é fácil de operar, preciso e exato, atendendo às necessidades de análise quantitativa de impurezas traço em háfnio de alta pureza, fornecendo suporte técnico confiável para a otimização do processo de produção e estabelecimento de padrões de qualidade para materiais de háfnio de alta pureza.

ICP-MS/MS;háfnio de alta pureza;elementos traço de impurezas;interferências em espectrometria de massas;modo de reação