摘要
본 실험에서는 X선 광전자 분광기를 사용하여 연삭 아크 구역의 온도 획득을 기반으로 K417 니켈 기반 주조 고온 합금 표면 산화막의 성분 및 구조를 연구하였다. 여기에는 정상적인 완만한 연삭 후 및 다양한 층위의 화상 색상 후 산화막이 포함되며, 결과는 산화막이 화상 색상이 나타난 시료에만 국한되지 않고 정상적인 완만한 연삭 시료에도 존재하며, 산화막 두께만 다르다는 것을 보여준다. 연삭 아크 구역 온도가 높을수록 화상 색상 층위가 깊어지고 산화막 두께도 증가한다. 산화막은 Ni, Cr, Ti, Al 등의 산화물 및 결정질 Ni 등이 혼합 구조로 구성되어 있다.
关键词
완만 이송 연삭; 연삭 화상; X선 광전자 분광기; 산화막
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