Diese Studie entwickelte eine Methode zur Bestimmung von 29 Spurenverunreinigungselementen in elektronischem Phosphorsäure basierend auf induktiv gekoppelter Plasma-Massenspektrometrie mit dreifacher Quadrupol-Filterung. Die Methode wurde in einer Reinraumumgebung der Klasse 100 mit einer dynamischen Probeneinlasskabine der Klasse 10 eingesetzt, um Kontamination effektiv zu kontrollieren. Durch Optimierung der Geräteparameter wurde die Elementantwort verstärkt, die Oxidationsrate reduziert und Massenspektrometerstörungen durch Oxidionen vermieden. Die Standardzugabemethode wurde zur Matrixeffektanpassung verwendet, kombiniert mit Helium-Kollisionsmodus, Sauerstoffmodus und kaltem Plasma-Ammoniak-Modus, um Interferenzen von mehratomigen Ionen, die durch Nebenreaktionen der Phosphorsäurematrix im Argonplasma entstehen, effektiv zu vermeiden, was die Nachweisgrenzen senkte und die Quantifizierungsgenauigkeit erhöhte. Die Ergebnisse zeigten für 29 Spurenelemente eine lineare Korrelation im Bereich von 0 bis 100 ng/kg mit einem Korrelationskoeffizienten größer als 0,998; die Nachweisgrenzen für die Elemente in 1 % (Massenanteil) Phosphorsäurelösung lagen zwischen 0,03 und 3,39 ng/kg; die Standardzugaberückgewinnung betrug 77,6 % bis 112 %; die relative Standardabweichung (RSD) der Stabilität überschritt 7,0 % nicht. Die Ergebnisse sind zuverlässig und erfüllen die Anforderungen an die Messung von elektronischer Phosphorsäure für fortschrittliche Herstellungsprozesse.

Dreifach-Quadrupol-induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie (ICP-MS/MS); elektronische Phosphorsäure; Spurenelemente; fortschrittliche Prozesse