تأسست هذه الدراسة على طريقة القياس الطيفي الكتلي المتسلسل بالبلازما المستحثة الحثيًّا (ICP-MS/MS) لتحديد 20 عنصراً من الشوائب النادرة في الهافنيوم عالي النقاء. اعتمدت على نظام حمضي ثنائي مكون من حمض النيتريك وحمض الهيدروفلوريك لتحليل العينة بالكامل بخطوة واحدة، دون الحاجة إلى فصل المصفوفة أو ترسيب مشترك، مما يتيح إدخال العينة مباشرة ويزيد بشكل ملحوظ من كفاءة التحليل وسرعته. من خلال تحسين معلمات تشغيل الجهاز بشكل منهجي، وبالنظر لتداخلات العناصر المختلفة، تم استخدام وضع تصادم الهيليوم (للعناصر Be، Mg، Al، Ti، V، Cr، Mn، Fe، Co، Ni، Cu، Zn، As، Mo، Cd، Sn، Sb، Pb) ووضع تفاعل الأكسجين (للعناصر Pt، Au) لإزالة تداخل الأيونات المتعددة الناتجة عن قاعدة الهافنيوم؛ كما تم تصحيح تأثير المصفوفة وانجراف الإشارة طويل الأمد باستخدام طريقة المعيار الداخلي عبر الإنترنت. أظهرت نتائج التحقق المنهجي أنه تحت أفضل ظروف الجهاز مع تدفق غاز التخفيف 0.520 لتر/دقيقة وتدفق غاز الأكسجين التفاعلي 0.950 مل/دقيقة، كان الحد الأدنى للكشف للعناصر المستهدفة 0.0102 إلى 0.3180 ملغم/كغ، مع معدل استرداد 91.0% إلى 109%، وكانت دقة العينة كنسبة انحراف معياري نسبي أقل من 5%. هذه الطريقة سهلة الاستخدام وتوفر دقة وموثوقية ممتازة، مما يلبي احتياجات التحليل الكمي لشوائب الهافنيوم عالي النقاء، ويوفر دعماً فنياً موثوقاً لتحسين عملية إنتاج مواد الهافنيوم عالية النقاء ووضع معايير الجودة.

طريقة القياس الطيفي الكتلي المتسلسل بالبلازما المستحثة الحثيًّا;هافنيوم عالي النقاء;عناصر الشوائب;تداخلات الطيف الكتلي;وضع التفاعل