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紫外光谱结合机器学习算法的祛痘类化妆品中4种禁用抗感染类药物快速筛查
研究报告 | 更新时间:2025-06-09
    • 紫外光谱结合机器学习算法的祛痘类化妆品中4种禁用抗感染类药物快速筛查

    • Rapid Screening of 4 Banned Substances in Acne-clearing Cosmetics by UV Spectroscopy Combined with Machine Learning Algorithm

    • 分析测试学报   2025年44卷第6期 页码:1096-1106
    • DOI:10.12452/j.fxcsxb.24122328    

      中图分类号: O657.3;TQ658
    • 收稿日期:2024-12-23

      修回日期:2025-01-09

      录用日期:2025-01-13

      纸质出版日期:2025-06-15

    移动端阅览

  • 向健华,芦丽,方方,石心红.紫外光谱结合机器学习算法的祛痘类化妆品中4种禁用抗感染类药物快速筛查[J].分析测试学报,2025,44(06):1096-1106. DOI: 10.12452/j.fxcsxb.24122328.

    XIANG Jian-hua,LU Li,FANG Fang,SHI Xin-hong.Rapid Screening of 4 Banned Substances in Acne-clearing Cosmetics by UV Spectroscopy Combined with Machine Learning Algorithm[J].Journal of Instrumental Analysis,2025,44(06):1096-1106. DOI: 10.12452/j.fxcsxb.24122328.

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