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中国地质大学工程技术学院,中国地质大学工程技术学院,中国地质大学工程技术学院 北京100083 ,北京100083,北京,100083
纸质出版日期:2002
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于翔, 于俊峰, 王成彪. 等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构[J]. 分析测试学报, 2002,(2):83-85.
于翔, 于俊峰, 王成彪. 等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构[J]. 分析测试学报, 2002,(2):83-85. DOI:
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利用X射线衍射 (XRD)和X光电子能谱 (XPS)等技术对射频 -直流 -等离子化学气相沉积 (RF -DC -PVCD)在钢基体上Si-B -N复合薄膜的组成和结构进行分析和研究 ;结果表明
通过给试样基体加一适当的直流负偏压
得到含有显著六方氮化硼 (h
B
N)、立方氮化硼 (c
N)结晶相的Si-B -N薄膜
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CSCD
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