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武汉大学应用化学系,武汉大学应用化学系 湖北武汉430072,湖北,武汉,430072
纸质出版日期:2004
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胡利芬, 曹顺安. 主成分回归rFIA同时测定磷和硅的应用研究[J]. 分析测试学报, 2004,(1):74-77.
胡利芬, 曹顺安. 主成分回归rFIA同时测定磷和硅的应用研究[J]. 分析测试学报, 2004,(1):74-77. DOI:
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以钼酸铵 -Sb3 +-抗坏血酸为显色体系
利用rFIA(反相流动注射分析 )分光光度法
对磷和硅的同时测定进行了实验研究 ;根据主成分回归法具有用较少的独立成分说明多个变量所提供的信息
有效降低噪声影响的特点
对实验所得数据进行了主成分回归处理
并建立起校正模型 ;结果表明
该模型在磷和硅的同时测定中是准确可行的。
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