氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究

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研究报告 | 更新时间：2025-02-21

- 氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究
- 暂无标题
- 分析测试学报 2009年第1期页码：22-26
- 作者机构：
  
  中山大学测试中心
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助项目(50572123);广东省自然科学基金资助项目(8151027501000076,06023084);中山大学青年教师科研启动基金资助项目(2005050401131070)
- DOI：
  中图分类号： TB383.1
- 纸质出版日期：2009
- 稿件说明：
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龚力, 刘笑, 谢方艳, 张卫红, 陈建. 氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究[J]. 分析测试学报, 2009,(1):22-26.
龚力, 刘笑, 谢方艳, 张卫红, 陈建. 氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究[J]. 分析测试学报, 2009,(1):22-26. DOI：

DOI：

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术

原位研究了氩离子轰击对三氧化钨纳米线薄膜的还原作用

钨的价态由+6价逐渐被还原为0价

并获得了具有多价态结构的氧化钨薄膜。通过对实验结果的分析

定性描述了氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的原理

认为择优溅射在整个还原过程中起着关键作用。

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