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中山大学化学系
纸质出版日期:1999
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邹永德, 王进, 莫金垣, 张润建. 用碳糊修饰电极测定氨基酸的伏安法研究 Ⅱ.组氨酸在氧化铝修饰碳糊电极上的电化学行为[J]. 分析测试学报, 1999,(3).
邹永德, 王进, 莫金垣, 张润建. 用碳糊修饰电极测定氨基酸的伏安法研究 Ⅱ.组氨酸在氧化铝修饰碳糊电极上的电化学行为[J]. 分析测试学报, 1999,(3). DOI:
DOI:
用10%氧化铝的修饰碳糊电极研究了测定组氨酸的伏安法。在0.05mol/L丁二酸-硼砂(pH=3.5)底液中在-0.6V出现一还原峰,结合2.5次微分技术测定组氨酸,在3.20~130μmol/L浓度范围内有良好的线性关系,相对标准偏差为3.4%,检出限为0.4μmol/L。检测灵敏度比文献报道有较大的提高。文中还讨论了电极过程。
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